Christian Dior La Mousse OFF/ON

Dior представляє очищувальний мус для обличчя OFF/ON, який на 90% складається з інгредієнтів натурального походження і має подвійну очищувальну дію.

– OFF = видаляє всі види забруднень, мікрочастинки міського середовища, макіяж та надлишки шкірного жиру. Клінічно доведена ефективність: мус, що очищає, видаляє 99% частинок, включаючи найдрібніші, і на 20% скорочує негативний вплив забруднень навколишнього середовища на клітинні мембрани.

- ON = знімає відчуття дискомфорту, підтримує оптимальний рівень зволоженості шкіри та її захисний бар'єр. Очищаючий мус дозволяє вдвічі скоротити негативний вплив забруднень навколишнього середовища на бар'єр шкіри.

Очищувальний мус для обличчя OFF/ON, збагачений водяною лілією з садів Dior, що очищає, а також волошковою квітковою водою, що пом'якшує шкіру, — це більше, ніж просто очищення шкіри: це засіб, який поєднує в собі пом'якшувальну і заспокійливу дію крему для обличчя і ефективність очищувача. муса, робить шкіру неймовірно чистою і дбайливо доглядає її.

Легкий і напрочуд ніжний мус, що очищає, для обличчя OFF/ON видаляє макіяж, УФ-фільтри і частинки забруднень, роблячи шкіру неймовірно чистою і свіжою.

Склад

AQUA (WATER) • GLYCERIN • LAURIC ACID • STEARIC ACID • SODIUM METHYL COCOYL TAURATE • MALTOOLIGOSYL GLUCOSIDE • PALMITIC ACID • SODIUM HYDROXIDE • HYDROGENATED STARCH HYDROLYSATE • CENTAUREA CYANUS FLOWER WATER • PARFUM (FRAGRANCE) • GLYCERYL STEARATE • PEG-100 STEARATE • PENTAERYTHRITYL TETRABEHENATE • NYMPHAEA ALBA ROOT EXTRACT • DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE • COCO-BETAINE • POTASSIUM HYDROXIDE • CHLORPHENESIN • SODIUM COCOYL ISETHIONATE • SODIUM BENZOATE • POTASSIUM SORBATE • TOCOPHEROL • CITRIC ACID • CAPRYLYL GLYCOL • POLYQUATERNIUM-22.

Спосіб застосування

1. Наберіть у долоню невелику кількість очищувального мусу OFF/ON. Додайте трохи води і спініть засіб у долонях.

2. Круговими рухами нанесіть мус, що очищає, на обличчя.

3. Ретельно змийте засіб водою, потім промокніть шкіру рушником.

При зберіганні уникайте дуже високих або низьких температур.