Ample:N Hyaluron Shot Bubble Cleanser

Hyaluronshot Bubble Cleanser від бренду Ample: N – м'яка пінка для вмивання. Вона дбайливо очищає шкіру, не ушкоджуючи її, усуває залишки доглядових та декоративних засобів, пил і бруд, який вбирає шкіра, а також усуває запалення та недосконалості. При цьому завдяки своєму складу пінка робить шкірі ніжну турботу, збагачує її вологою і омолоджує. Гіалуронова кислота є основним компонентом пінки. Вона сприяє регенерації шкіри. Вирівнює водний баланс. Зволожує шкіру, збагачуючи кожен її шар вологою. Підтримує необхідний рівень вологи у шкірі та захищає від її втрати. Завдяки підтримці вологи покращує еластичність та пружність шкіри, усуває дрібні зморшки. Очищувальну дію виявляє екстракт ялівцю. Природний компонент очищає шкіру від забруднень і недосконалостей, має протизапальну дію, звужує пори, усуває зайву жирність шкіри, служить антисептиком. Ялівець також виступає в ролі антиоксиданту та уповільнює процеси старіння шкіри. Цитрусовий екстракт апельсина збагачує шкіру вітаміном С, освітлює її, а також тонізує та освіжає, служить профілактикою від виникнення недосконалостей.

Склад

Water, Disodium Laureth Sulfosuccinate, Disodium Cocoamphodiacetate, Glycerin, Sodium Methyl Cocoyl, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Sorbitol, Disodium Cocoyl Glutamate, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Sodium Hyaluronate Acid, Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Ceramide 3, Citric Acid, Polyglyceryl-10 Laurate, Polyglyceryl-10 Myristate, Methyl Dihydrojasmonate, Dipropylene Glycol, Isopropyl Myristate, Juniper Oil, Orange Oil, Cyclamen Aldehyde (Perfume), 3-Hexenolde, Parfum Bergam Oil, Xylityl Glycoside, Anhydroxylitol, Octyldodecanol, Xylitol, Caprylyl Glycol, Disodium EDTA, Phenylethyl Alcohol.

Спосіб застосування